路透阿姆斯特丹9月14日 - 摩根大通分析師周一表示，ASMLASML.AS正研究如何在2028年生產逾110台極紫外$(EUV)$光刻機，以滿足人工智能驅動的強勁需求。

ASML表示，其2027年交付的EUV光刻機已幾乎售罄，當年至少可生產80台，並計劃在2028年將產能提高30%。摩根大通稱，該公司目前面臨的主要制約因素是EUV光刻機的組裝速度，而非供應鏈。

分析師預計，英特爾INTC.O將在2027年再次成為ASML的重要客戶，包括馬斯克旗下Terafab在內的新客戶也正在逐步形成。ASML預計，2027年對中國內存芯片製造商的銷售將增強。下一代高數值孔徑(High NA)光刻機將從2028年開始採用，未來十年間的增長將更加顯著。