摩根大通分析師與阿斯麥管理層會面後表示，公司正研究在2028年生產逾110部極紫外光(EUV)光刻機，以應付AI帶動的需求。阿斯麥早前已表示，2027年的EUV光刻機產能幾近售罄，當年可生產至少80部，並計劃在2028年把產量提高約30%。小摩引述管理層指，目前需求仍然「非常非常強勁」，大部分新訂單已是2028年交付。小摩指出，阿斯麥目前擴大EUV產量的主要限制並非供應鏈，而是EUV光刻機的組裝速度。 該行預計，英特爾在2027年將再次成為阿斯麥的重要客戶；至於馬斯克正在籌建的Terafab，則被列為正在發展中的新客戶。至於新一代High NA EUV光刻機，該行預計客戶將於2028年開始採用，但較大規模的使用料會在未來10年逐步增加。中國市場方面，該行預計阿斯麥於2027年向中國記憶體芯片製造商的銷售將較強。